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NachrichtenLexikonProtokolleBücherForenDonnerstag, 31. Juli 2014 

Fotolithografie


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Die Photolithographie bzw. Fotolithografie ist ein lithografisches Reproduktionsverfahren bei dem mittels Belichtung Muster auf Materialien aufgebracht werden. Sie in der Drucktechnik und der Halbleitertechnik von

Inhaltsverzeichnis

Drucktechnik

In der Drucktechnik werden in diesem Halbtonnegative auf beschichtete Steinplatten belichtet. Diese wurden mit einer lichtempfindlichen Asphaltschicht versehen auf die über mehrere Stunden wird wobei die Lichteinwirkung für eine Aushärtung Asphaltes sorgt. Verschiedene Terpentinöle entfernen bei der Entwicklung die noch unbelichteten Partien wodurch je Halbtonwert eine körnige Oberflächenstruktur verbleibt.

Im Bereich der Originalgrafik kommt dieser Technik ebenfalls Bedeutung zu. haben dann originalgrafischen Charakter wenn sie mit schöpferisch manipulieren. Ein bekannter Vertreter dieser Technik Robert Rauschenberg .

Halbleitertechnik

In der Halbleitertechnik werden mittels der Fotolithografie Strukturinformation in Fotoresist übertragen der wiederum zuvor auf ein Substrat (meistens einen Wafer ) aufgebracht wurde. Nach Entwicklung des latenten Bildes kann die Strukturinformation z.B. mittels in eine darunterliegende Schicht übertragen werden. Der wird danach wieder entfernt.

Das Wiederholen dieser Prozessabfolge mit verschiedenen Schichten und einer genauen Justierung der einzelnen Muster zueinander ist die Schlüsseltechnik bei der Herstellung von integrierten den so genannten Mikrochips .

Das Beherrschen und die Weiterentwicklung dieses bestimmt wesentlich mit wie lange das Mooresche Gesetz noch gelten wird.

Optische Lithographie

Bei der optischen Lithografie wird die einer Fotomaske mittels Schattenwurf oder Projektion in einen lichtempfindlichen Photoresist übertragen. Die Auflösung wird im wesentlichen von der verwendeten bestimmt. Stand der Technik 2003 ist die Verwendung von ArF Excimer-Lasern einer Wellenlänge von 193  nm . Damit lassen sich mit der entsprechenden Kalziumfluorid -Optik Linienbreiten von ca. 130 nm erzeugen.

Röntgenlithografie

Bei der Verwendung von Röntgenstrahlen aus Quellen mit der nötigen Konvergenz B. Synchrotronstrahlung ) lassen sich theoretisch kleinere Strukturen herstellen das Verfahren besitzt eine erheblich größere Fokustiefe. Maskentechnik gestaltet sich allerdings sehr aufwändig so bis heute keine großtechnische Anwendung dieses Verfahrens ist.

Elektronen- und Ionenlithografie

Mit Teilchenstrahlen lassen sich die technischen bei der hochauflösenden Lithographie besser beherrschen. So die Fotomasken für die optische Lithographie heute nur noch im Direktschreibverfahren mittels Elektronenlithografie hergestellt. sind vom Funktionsprinzip her modifizierte Rasterelektronenmikroskope . Der geringe Durchsatz dieses Verfahrens verbietet die direkte Verwendung bei der Herstellung von

Mit open_stencil_masks und Ionenlithografie wären höhere möglich. Aber auch hier ist aufgrund der Maskentechnik keine Anwendung in grossem Maßstab in



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