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Maskentechnologiezentrum für Chipherstellung in Dresden eröffnet

14.10.2003 - (idw) Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF)

Bulmahn: "Investitionen in die Forschung zahlen sich in Arbeitsplätzen aus"

Mit der Forschungsförderung des Bundesministeriums für Bildung und Forschung (BMBF) entstehen neue zukunftssichere Arbeitplätze. Bundesforschungsministerin Edelgard Bulmahn wies am Montag anlässlich der Eröffnung des neuen Maskentechnologiezentrums AMTC (Advanced Mask Technology Center) in Dresden auf die Bedeutung der Forschungsinvestitionen für den Arbeitsmarkt hin. "Nur mit langfristigen technologischen Investitionen können wir den Standort Deutschland auf Dauer sichern." Mit Anstoß des BMBF sei der heute weltweit akzeptierte 300 mm Silizium-Waferstandard in Dresden geschaffen worden. In diesem Zusammenhang seien in der Region bislang rund 11.000 neue Arbeitsplätze sowie 5.000 weitere im übrigen Bundesgebiet geschaffen worden.

Drei international führende Unternehmen der Halbleiterindustrie, Infineon Technologies AG, Advanced Mikro Devices (AMD) und Dupont Photomasks (DPI) haben mit AMTC (Advanced Mask Technology Center) und der angeschlossenen Maskenproduktion von DPI eines der anspruchsvollsten Zentren der Welt für Photolithographiemasken zur Chip-Entwicklung geschaffen. Sie investieren rund 500 Millionen Euro. Daneben fördert das BMBF in den kommenden vier Jahren mit 80 Millionen Euro ein Verbundprojekt mit 20 Unternehmen für die Entwicklung der Maskentechnologie sowie alternativer Lithographieverfahren. Mit AMTC und der Förderung des BMBF entstehen so fast 400 zusätzliche Arbeitsplätze.

Bulmahn bezeichnete das internationale Engagement in Dresden als wegweisend. "Mit dem neuen Maskentechnologiezentrum in Dresden wird eine weitere Ausbaustufe für den Elektronikstandort Deutschland erreicht."

Mit dem AMTC sollen Photomasken für die bereits heute absehbare Nanoelektronik der Zukunft mit Linienbreiten von 65 Nanometer und kleiner gefertigt werden. Heute sind Breiten von 110 bis 130 Nanometer üblich, was 500 mal dünner als ein menschliches Haar ist. Photomasken sind Nanotechnologieprodukte aus hochreinem Quarz oder Glas. Die Nanostrukturen auf diesen Masken bestimmen die spätere Funktionalität der Chips. Der Photomaske kommt damit eine Schlüsselstellung in der Fertigung elektronischer Bauteile zu. Sie schließt die Lücke zwischen Chip-Design und Chip-Produktion.

Nach einer Studie des DIW haben sich die staatlichen Investitionen in den Elektronikbereich der Region Dresden ausgezahlt. Demnach übersteigen die Rückflüsse durch Mehrwertsteuer sowie Lohn- und Einkommensteuern schon in diesem Jahr die bis Mitte 2002 geflossenen staatlichen Fördermittel in Höhe von 1,2 Milliarden Euro. Hochgerechnet bis zum Jahr 2010 sind sogar Überschüsse von bis zu sechs Milliarden Euro zu erwarten. Weitere Informationen finden Sie im Internet unter http://www.bmbf.de/pub/vom_transitor_zum_maskenzentrum_dresden.pdf.

Ansprechpartner sind auch:

Dr. Volker Tüngler
DLR-Projektträger des BMBF
Nanoelektronik und Systeme
Rutherfordstr. 2
12489 Berlin
Tel.: +49 (0)30/67055-738
http//www.pt-dlr.de
EMail: Volker.Tuengler@dlr.de

Dr. Jochen Dreßen
VDI Technologiezentrum
Projektträger des BMBF
- Physikalische Technologien -
Graf-Recke-Str. 84
40239 Düsseldorf
Tel.: +49(0)211/6214-580 Fax: -484
http://www.vdi-tz.de
EMail: dressen@vdi.de
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