Workshop Nanoimprint Technology

10.05.2007 - (idw) Optence e.V. - Kompetenznetz Optische Technologien Hessen/Rheinland-Pfalz

Namhafte Wissenschaftler und Ingenieure aus Hochschule und Industrie werden am 24.Mai 2007 in Wetzlar die Grundlagen und Anwendungen der Nanoimprint-Technologie vorstellen und die Möglichkeiten und Grenzen bezüglich der Anwendungen in den optischen Technologien aufzeigen. Für die lithographische Herstellung von Strukturen kleiner 100 nm stehen heute teure EUV-Lithographieverfahren zur Verfügung. Die Entwicklung einer neuen Lithographie-Generation für Strukturen kleiner 100 nm beschäftigt deshalb die Industrie. Hochgenaue Massenfertigung zu möglichst geringen Kosten ist das Ziel. Die Nanoimprint-Technologie bietet die Möglichkeit, Komponenten mit optischen und photonischen Strukturen, MEMS/NEMS, kleine Displays und Verbindungshalbleiter kostengünstig zu reproduzieren.

Optence e.V., das Photonik Zentrum Hessen in Wetzlar AG und die HA Hessen Agentur GmbH laden daher zum Workshop "Nanoimprint Technology" am 24. Mai 2007 nach Wetzlar ein. Der Workshop steht unter wissenschaftlicher Leitung von Herrn Prof. Theo Tschudi, Institut für Angewandte Physik der TU Darmstadt.

Programm:

09.00 Anmeldung

09.30 Begrüßung und Eröffnung
Prof. Theo Tschudi, TU Darmstadt

09.45 Übersicht Nanoimprint-Technologie
Prof. Hella-Christin Scheer, Universität Wuppertal

10.30 Maskenschreiben, Lithographieprozesse, Formherstellung
Dr. Herbert Hein, Forschungszentrum Karlsruhe

11.00 Kaffeepause

11.30 Nanoimprint Resiste und ORMOCER®e
Dr. Marco Vogler, micro resist technology, GmbH, Berlin

12.00 Fabrication of nanoimprinted polymer photonic devices and 3D polymer structures
Prof. Clivia Sotomayor, Tyndall National Institute, Cork, Ireland

12.30 Diffraction, applications and marketing potentials
Dr. Lingli Wang, Philips Lighting, Eindhoven

13.00 Mittagspause

14.00 Effektive Medien - Herstellung und Applikation
Dr. Ernst-Bernhard Kley, Universität Jena

14.30 Nanoimprint Technologie
Lars Kock, AMO GmbH, Aachen

15.00 Kaffeepause

15.30 Replizierte Mikrooptik für Spektrometer und abbildende Systeme
Dr. Robert Brunner, Carl Zeiss AG, Jena

16.00 Bragg Gitter für Sensoranwendungen
Dr. Manfred Rothardt, IPHT, Jena

16.30 Nanoimprint Anwendungen
Paul Lindner, EV Group, Österreich

17.00 Ende der Veranstaltung, Gelegenheit für weitere persönliche Diskussionen

Die Teilnahmegebühr beträgt für Mitglieder der Kompetenznetze Optische Technologien 80 Euro, für andere Teilnehmer 110 Euro (zzgl. Mwst.)
Anmeldeschluss: 11. Mai 2007

Veranstaltungsort: Zentrum für HighTech und Kultur, Ernst-Leitz Saal,
Steinbühlstr. 15 C
35578 Wetzlar

Anmeldung sind Online möglich unter:

http://www.optence.de/workshop-nanoimprint-technoloy

Kontakt:
Optence e.V.
Daniela Reuter
reuter@optence.de
Ober-Saulheimer-Str. 6
55286 Wörrstadt
Tel.: 06732-935 122

Optence ist das Kompetenznetz Optische Technologien in Hessen /Rheinland-Pfalz.
Weitere Informationen: http://www.optence.de